Zobrazenia: 87658 Autor: Editor stránok Čas zverejnenia: 2019-07-19 Pôvod: stránky
Mokrý náter si vymieňa teplo s monotónnym horúcim plynom, absorbuje teplo monotónneho vzduchu a kvapalina na povrchu náteru Náter lepidla sa neustále vyparuje na paru do ovzdušia a para je unášaná monotónnym vzduchom.
Keď je obsah kvapaliny v mokrom nátere relatívne vysoký (nad kritickým obsahom vlhkosti), rýchlosť odparovania nanášača lepidla závisí od nasledujúcich faktorov: rýchlosť vzduchu na povrchu nanášača lepidla; vlhkosť monotónneho vzduchu B; teplota monotónneho vzduchu C . Keď je náter monotónny, kým jeho obsah vlhkosti nedosiahne kritický obsah vlhkosti, rýchlosť odparovania vzhľadu nanášača lepidla závisí od uvoľnenia kvapaliny vo vnútri nanášača lepidla.
Vnútorný proces uvoľňovania kvapaliny v roztierači lepidla, v dôsledku odparovania roztierača lepidla sa koncentrácia kvapaliny na povrchu roztierača lepidla zmenšuje a kvapalina vo vnútri roztierača lepidla sa neustále uvoľňuje na povrch nanášača lepidla. Potiahnutý povlak v prechodnom štádiu vstupuje do monotónneho boxu a vzhľad membrány s nanášaním lepidla postupne znižuje teplotu v dôsledku odparovacej endotermy rozpúšťadla alebo vody a dochádza k procesu vyrovnávania.
